《造光者》,揭開晶片戰爭中最神秘的巨人面紗
這不僅是艾斯摩爾(ASML)的企業傳記,更是一部縮影了 半導體地緣政治 的斷代史。 ASML掌握著全球半導體產業的命脈—曝光機(Lithography)。在業界,這種設備被更精確地稱為「掃描機」(Scanner)或「步進機」(Stepper)。它堪稱晶圓廠的心臟,在動輒百億美元的建廠成本中,光是微影設備就佔據了高達30%的預算,其戰略地位不言而喻。 ★註: 半導體製程依序為:薄膜 → 上光阻 → 曝光 → 顯影 → 蝕刻 → 去光阻。 ASML 的「曝光機」即在 「曝光」 階段登場——它讓光線穿過畫有電路圖的「光罩」(底片),將晶片的藍圖精準轉印在晶圓的光阻上。 本書作者馬克‧海因克(Marc Hijink)是荷蘭權威大報《新鹿特丹報》的資深財經記者與科技專欄作家。但他不只具備財經視角,早年更撰寫過電子工程技術專書,這種「懂技術」的理工背景,讓他在描寫ASML這家硬核科技公司時能精準切中要害,將那些枯燥乏味的技術爭霸,轉化為一部精彩的商業小說。 由於荷蘭人對外低調保守,一般外國記者難以窺見ASML全貌,但海因克獲得了前所未有的權限—他獲准深入公司內部長達三年,自由進出無塵室、旁聽高層戰略會議。這使本書能以極為罕見的「第一手視角」,完整揭露ASML如何從飛利浦的棄子,成長為全球科技霸權爭奪的戰略核心。 本書的主旨 『 極度專注(Focus) 』 艾斯摩爾(ASML)的勝利,源於一種近乎偏執的生存策略—「極度專注」。他們深知自己無法獨力製造一切,因此選擇只專注於最核心的「系統整合」與「架構設計」。 ASML相信,存活下來的唯一契機,在於掌握下一代技術的突破口。透過這種「減法哲學」,他們得以匯聚全球頂尖的供應鏈,傾全力 專注於 打造搭載更精準系統、更精密鏡頭的微影設備。 ASML如何被創立? 從飛利浦的棄子到半導體微影設備霸主 ASML與台積電的淵源始於飛利浦(Philips)。 ASML的技術源頭可追溯至1970年代末的荷蘭飛利浦物理實驗室(NatLab)。當時實驗室研發出的「晶圓重複曝光機」(Silicon Repeater,後改名為晶圓 步進機 Wafer Stepper )雖然技術領先,但因研發成本極高,且飛利浦當時正面臨日本消費電子產品的殺價競爭,急需剝離非核心業務以求生存,因此尋求將這個賠錢的曝光機部門分拆出售。 1984年,飛利浦與荷蘭先藝公司(ASM ...